德创科技清洗机(单片清洗机-华林科纳)
单片清洗机-华林科纳CSEsingle wafer cleaner system
华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀去胶金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12”;
可处理晶四材料︰硅砷化镕磷化锢氮化邃碳化硅银酸锂袒酸锂等;
主要应用领域︰集成电路声表面波器件微波毫米波器件MEMS先进封装等
设备名称 |
CSE-单片清洗机 | ||
类型 |
单片式 | ||
适用领域 |
半导体、太阳能、液品、MEMS等 | ||
清洗方式 |
2英寸——12英寸 | ||
设备稳定性 |
1、≥0.2um颗粒少于10颗 2、金属附着量:<3E10 atoms/ cm- 3、纯水消耗量: 1L/min/片 4、蚀刻均一性良好(Si0z氧化膜被稀释HF处理):名2% 5、干燥时间:≤20S 6、药液回收率:≥95% |
单片式优点 |
1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机) 单片清洗机 , 免责声明:本文仅代表文章作者的个人观点,与本站无关。其原创性、真实性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容文字的真实性、完整性和原创性本站不作任何保证或承诺,请读者仅作参考,并自行核实相关内容。文章投诉邮箱:anhduc.ph@yahoo.com 热门推荐
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