最早我国的光刻机不是很牛吗（高端光刻机比原子弹还稀有）

世界上有100多个国家和地区，能够制造出原子弹的国家，才区区9个国家。

然而，全世界能够制造光刻机的国家，只有个位数。可在高端光刻机(EUV)领域，全世界就只有荷兰一个玩家成功研制出EUV光刻机。

（荷兰阿斯麦公司研制的EUV光刻机）

难道高端光刻机的研制难度真的比原子弹还难吗？

事实上，原子弹和光刻机分属两个不同行业，不具有可比性。

不过，我们不能够忽略一个事实，那就是能够研制高端光刻机的国家确实比能研制出原子弹的国家少很多。

二 高端光刻机为什么这么难研制呢？

其实主要在于高端光刻机集结了物理学、光学和化学等一系列综合技术的研发与应用，它的研制难度非常大。

（光刻机巨头——ASML）

咱们以荷兰ASML（阿斯麦）公司为例，它们研制的EUV光刻机只有20%左右的专利和设备是由它们公司提供，像光刻胶和镜片等一些东西就需要其他公司提供。与其说EUV光刻机是荷兰ASML公司研制的，倒不如说是西方国家一起研制的EUV光刻机。

光刻机研制的难度主要集中在以下几点：

其一，光源难题。

光刻机，顾名思义，就是利用光来硅片上雕刻电路，从而达到人们所需的芯片。

而这种光可不是咱们平时见到的那种太阳光。而是一种紫外线，不同级别的光刻机所使用的光源也不一样。

DUV光刻机主要使用的是短波紫外线；

（EUV光刻机出现之前，人们使用长达几十年的DUV光刻机来雕刻芯片）

EUV光刻机主要使用的是极紫外线。

ASML生产的EUV光刻机主要使用的是美国一家公司提供的极紫外线光源。极紫外线是由短波紫外线经历多重反射才到达。

一个稳定且持续输出的极紫外线光源是高端光刻机生产芯片的重中之重。

如果没有稳定的光源，那么所生产的芯片良品率将会大打折扣，这样不仅增加了生产芯片的成本，甚至还影响芯片的性能，更影响企业的生产效益。

其二，光刻机的反射镜片。

EUV光刻机主要使用的是国际老牌光学巨头蔡司公司研制的光学反射镜片。据说蔡司公司生产的高端光学镜头，就连哈苏和徕卡这些光学巨头都难以企及。

（据说，蔡司是唯一可以研制EUV光刻机光学反射镜片的公司）

光学反射镜片在EUV光刻机中占据重要地位，就是把母版上的电路图按照一定的比例精雕在硅片上，这是制造芯片的关键步骤之一。

如果没有做工精良的反射镜片，哪怕是有稳定的极紫外线光源，也难以精雕出芯片。

其三，EUV光刻胶。

EUV光刻胶可以说是光刻机中最不起眼的东西。它在整个EUV光刻机中所占据的比重并不高，但是谁要是小瞧光刻胶，那么绝对要吃大亏。

可以说，光刻胶在芯片中所占据的地位甚至不比光源或反射镜低。

只因缺少了光刻胶，EUV光刻机就难以精雕出高端芯片。或者说大

概出来雕刻出残次品。

目前日本在光刻胶领域占据龙头地位，其中JSR公司、东京应化、富士胶片和住友化学等公司占据的比重最多，富士胶片和住友化学还可以生产EUV光刻机专用的光刻胶。

除了以上几个难题以外，还有光刻机的操作台和超干净的工作场所等问题，只有解决了这些难题才有机会制造出高端光刻机。

三 中国有能力自己研制光刻机

ASML公司的CEO曾经非常傲慢地告诉全世界，哪怕是把光刻机地图纸送给中国，中国也造不出来。

中国有句古语：骑驴看唱本，走着瞧。

静待他们自己打自己脸的那一刻儿。

不曾想，打脸来的太快了。

2020年，ASML公司的某位高管宣布要向中国出售不需要美国许可的DUV光刻机。

ASML出售DUV光刻机的目的非常明确。

其一，作为商人必须要出售光刻机来赚取高额利润，并且自己研发下一代光刻机提供资金保障。毕竟DUV光刻机性能相对于EUV光刻机差了不少，卖一些也无所谓。

其二，打压国内研制光刻机的生产厂商。

虽然现在我国可以研制出国产DUV光刻机，但是与ASML生产的光刻机相比没有任何优势，尤其是单价方面要高出不少。

一旦ASML向中国倾销DUV光刻机，那么无疑会让原本脆弱的国内光刻机生产厂商雪上加霜，甚至有可能直接毁掉中国的光刻机生产企业。

不得不说，ASML真的非常狠毒。

然而，我们从这件事情可以看出外国人不仅忌惮我国集中力量办大事的态度，还想要通过卑鄙手段抹杀掉中国自己研制光刻机的能力，好让他们想着赚钱就怎么赚钱。

另外，日本JSR公司CEO曾经扬言：哪怕是给中国一份光刻胶的配方，也难以实现量产高纯度和高精度的EUV光刻胶。

不得不说他们真的非常傲慢。

不过，越傲慢的人，越容易被打脸。

我国不少化学公司布局光刻胶领域，有的化学公司已经攻克了光刻胶的一些专利，甚至研制出了适合EUV光刻机使用的EUV光刻胶，直接打破了日本在这一领域的垄断。

（国产光刻胶虽然实现了从无到有的突破，但是市场占有率一直比较低，尤其是高端光刻胶市场，几乎看不到中国光刻胶的身影）

现在我国在光学系统、物镜系统、双操作台、控制系统和光刻胶领域都有布局。

虽然这些领域有的已经取得了突破性进展，有的暂时还没有取得突破性的进展，但是凭借着中国人智慧和能力，制造出高端光刻机只是时间早晚的问题。

一旦中国成功研制出高端EUV光刻机，那么不仅对ASML来说，是个坏消息。要是国产高端EUV光刻机，可以大量生产，那么无疑会把EUV光刻机的价格干到白菜价。

另外，中国几乎不用惧怕美国为首的西方国家在芯片领域对我国的打压。

大家期待中国成功研制出EUV光刻机吗？

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