半导体设备产业链164页深度解析(半导体设备产业链164页深度解析)
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报告全文164页,系统、深入分析了半导体设备产业链全貌、市场前景、竞争格局和投资策略,具有极高的参考价值。
报告提纲:一、全球半导体设备市场规模及竞争格局
二、全球半导体设备详细拆分及国产化率分析
- 光刻机市场及国产化率情况
- 刻蚀机市场及国产化率情况
- 镀膜设备市场及国产化率情况
- 量测设备市场及国产化率情况
- 清洗设备市场及国产化率情况
- 离子注入设备市场及国产化率情况
- 其他设备市场及国产化率情况
三、半导体设备核心标的推荐逻辑
报告摘要:半导体市场不同阶段需求推动力
- 1990s-2005,PC机、互联网时代,2010 年后成存量市场;
- 2005-2018:移动手机、社交媒体时代, 2020年后成存量市场;
- 2018-未来:人工智能、大数据时代,AI 成行业需求核心驱动力
- 2017-2020,移动消费市场缓慢增长 AI 市场大幅增长;
- 2017-2020,硅片制造设备全球需求量平均为450亿美元/年。
技术革新带来硅片制造设备资本支出大幅提升
- NAND从Planar发展到3D 64层结构,制造设备支出增加60%;
- DRAM从25纳米发展到14-16纳米,制造设备支出增加40% ;
- 晶圆代工厂加工工艺从28纳米发展到7纳米,制造设备支出增加100%;
- LCD发展到OLED技术,制造设备支出增加425%。
设备商每隔18-24个月推出更先进的制造设备
- 按照摩尔定律,每隔18-24个月集成电路的技术都要进步一代,那么相应的上游设备商也必须每隔 18-24个月推出更先进的制造设备;
- 50多年来,光刻机的分辨率从10微米发展到目前的10纳米,整整提升了1000倍。
半导体制造工艺流程
- 如今建设一条12英寸芯片生产线的投资已经很高,少则 30-50亿美元,其中仅半导体设备的投资占70%以上。
- 根据2017年美国加 州UC Berkeley大 学的理论数据,一 条月产12英寸硅片, 5万片的生产线, 需要50台光刻机, 10台大束流离子注 入机,8台中束流 离子注入机,40台 付蚀机以及30台薄 膜淀积设备等,估 计各类设备的总计 台(套)要超过500个。
新建产线资本支出中半导体设备支出占比高达80%
- 新晶圆制造厂从建立到生产的周期大概为2年;
- 一般在第20个月的时候开始进行设备搬入安装、测试、试生产;
- 一条新建产线最大的资本支出来自于半导体设备,资本支出占比高达80%,厂房建设占比仅20%。
晶圆制造设备占半导体设备比例达80%,其中光刻、刻蚀、镀膜占比最高
- 晶圆制造设备在整个半导体制造设备中占比最大,投资占比达80%;
- 晶圆制造设备种,光刻机占比最高(30%),其次是刻蚀设备(20%),PVD(15%),CVD(10%),量测设备(10%),离子注入设备(5%)等。
全球半导体设备投资额呈上升趋势
- 2017年半导体设备市场总销售额达到566亿美元,相较于2016年的412亿美元,同比增长了37%。 2018年有望达到超过600亿美元的规模,符合增长率7.7%。全球半导体设备投资额呈上升趋势;
- 2016年,中国大陆市场首次超过北美和日本,半导体设备销售额达到64.6亿美元,同比增长13%, 成为全球半导体设备销售第三大市场。2017年,中国大陆市场仍处于全球半导体设备销售第三大 市场,以27%的增速达到了82.3亿的市场规模。
全球半导体设备市场集中度高,美日厂商技术领先
- 产品市场集中度高,美日技术领先,以美国应用材料、荷兰阿斯麦、美国拉姆研究、日本东京电子、 美国科磊等为代表的Top10国际知名企业占据了全球集成电路装备市场的主要份额。2016年全球半 导体专用设备前 10 名制造商销售规模占全球市场的 79%,前 20 名销售占比87%,前10名销售占 比92%,市场集中度高。
半导体制造核心设备市场高度垄断
- 晶圆制造核心设备为光刻机、刻蚀机、PVD和CVD,四者总和占晶圆制造设备支出的75%;
- 光刻机被荷兰阿斯麦和日本的尼康及佳能垄断,TOP3 市占率高达92.8%;
- 刻蚀机被美国的拉姆研究、应用材料及日本的东京电子垄断,TOP3 市占率高达90.5%;
- PVD被美国的应用材料、Evatec、Ulvac垄断,TOP3 市占率高达96.2%;
- CVD被美国的应用材料、东京电子、拉姆研究垄断,TOP3 市占率高达70%;
- PVD被美国的应用材料、Evatec、Ulvac垄断,TOP3 市占率高达96.2%;
- 氧化/扩散设备主要被日本的日立、东电和ASM垄断, TOP3 市占率高达94.8%。
(报告观点属于原作者,仅供参考。报告来源:西南证券)
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