光刻机是什么怎么这么难造（光刻机制造有多难）

老话说，送人玫瑰手有余香，意思就是有好事要分享，分享是美德。今天分享高大上的制造芯片的机器——光刻机。

芯片应用领域太广泛了，衣食住行主方面面都少不了芯片。最常见的，最让我们意识到它的重要性的就是手机了。

手机的核心部件就是芯片，手机性能高低、价格贵贱，就是那个小小的芯片决定的，它太重要了，我们才全力以赴地研究它，

当前世界上最领先的并投入使用的是5纳米芯片，我们完全自主量产的是28纳米芯片，中间差了，14、7纳米，这也就是美国通过法案限制28纳米以上的光刻机技术出口中国的原因了。

光刻机是制作芯片的机器，现在14、7、5纳米的光刻机只有美国西方公司能生产，特别是荷兰的阿斯迈尔公司，能生产最先进的5、3纳米的光刻机。芯片越小，用电量越少、效率越高、成本越低。也就是说要想得到5、3纳米的芯片，必须要有能制作芯片的工具，光刻机。

我们正是缺少光刻机，实际上咱们的华为公司早已经能设计5纳米芯片了，就是没有光刻机，而没办法生产出芯片。

光刻机其实就是用激光束在硅晶片上烧蚀出集成电路，大致上就跟用激光去除人脸的痣一个道理，只是材料不一样难度极其高。

一台光刻机上有一百万个高精度器件，5纳米是什么概念？1纳米=0.000000001米，水分子的直径约为0.4纳米，太小了。光刻机就是要在5、3、2纳米大小的硅晶片上刻蚀出厚100层，拥有100亿颗晶体管并由线路连通的架构，想一想都难。

有专家比喻它的难度，就相当于两列高速行驶的列车，从其中一列上伸出一把雕刻刀，在另一列车米粒上雕刻出地球，细致到可以看到街道上行驶的汽车车牌。太难了。

再举个例子，原子弹难不难？大家都知道，非常难，航天、航空发动机，也都很难，专家们就给了一个难度系数，以此说明光刻机有多难。

原子弹的难度系数为：1；

航天的难度系数为：20；

航空发动机难度系数为：50 ；

5纳米光刻机的难度系数为：100。

不过最新的好消息是咱们正在奋起直追,中芯国际的14、7纳米芯片已经试产，5纳米芯片，乐观估计5年内会有突破，芯片被卡脖子的时间不会太长了，我们期待这一天的到来。